重庆任丙科技有限公司（以下简称任丙科技公司）成立于2011年，核心团队专注于新材料产品研发生产已逾20年，作为国家级高新技术企业、重庆市科技型企业、重庆市知识产权试点企业，始终坚持创新和品质优先，曾获重庆市2017年“专、精、 特、新”创新型企业及2020年“专、精、特、新小巨人”称号，并于同年成为中国晶体学会晶体应用与产业分会理事单位。任丙科技公司拥有4项重庆市重点战略性新产品、8项发明专利、25项实用新型专利以及完成成果转换18项的优异成绩，迅速成长为国内高纯氧化铝行业的领先企业。

    任丙科技公司已产、在建、在研共十几个新材料产品，包括第三代半导体氮化镓芯片的蓝宝石衬底用高纯氧化铝（自有技术）、下一代宽禁带半导体材料氮化铝（全球首创自有技术）、新能源车用材料（自有技术）、芯片抛光材料（与国内高校合作开发的自有技术）、高纯光学材料（自有技术）、手机与watch手表用陶瓷背板材料（自研技术）、高纯超高温材料（在研）等。任丙科技公司产品远销国内外，广泛应用于氮化镓芯片衬底，手机、手表、夜光显示、航空航天军事装备整流与红外探测等众多领域。